光刻胶黏剂设计
2013-11-05 23:16:30 作者：来源：评论：0 点击：

光刻工艺是利用一类感光性树脂材料作为抗蚀涂层。这类感光树脂材料在光照(主要是紫外光)时，短时间内即能发生光化学反应，使得这类材料的溶解性、熔融性或亲和性在曝光后发生明显的变化，利用这些性能在曝光前后发生的明显差别，只要控制光照的区域就可得到所需几何图形的保护层。

这种作为抗蚀剂涂层用的感光树脂材料称为光刻胶黏剂或光致抗蚀剂。

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