日本产业技术综合研究所（产综研）近日宣布，通过把纳米压印与丝网印刷融合到一起，开发出了能够利用与过去一样的印刷原版，使线条粗细缩小到原版图案1/30以下的超微细印刷技术。

        该技术首先通过纳米压印成型，在薄膜表面形成从纳米到微米不等的凹凸结构。在拥有凹凸结构的薄膜上进行丝网印刷后，借助毛细管作用，可以在凹凸的微小间隙中填充功能性墨水。因为不需要像过去的技术那样对原版图案的开口部进行微细化，所以不会发生墨水堵塞的问题，有助于提高量产效率。

        使用过去的印刷技术（原版开口宽度为200μm）制作的导电膜的光（波长550纳米）透射率为43%。而使用此次新开发的技术，可印刷线宽为3μm的超微细布线，导电膜的透射率达到了90%。在印刷之前，薄膜本身的透射率为91%，布线对于透射率的影响微乎其微。

        另外，使用过去的印刷技术时，如果微细化程度增加，布线的高度会降低，导致薄膜电阻增大。而此次开发的新技术将墨水封闭在了凹凸结构的微小缝隙内，即使布线微细化，也可以维持原来的高度，从而抑制薄膜电阻增大。

        这项技术可以用来印刷高密度的微细布线，理论上可以印刷0.1μm以下的微细图案。通过结合薄膜嵌入成型技术，还可以在曲面印刷图案。而且有望通过非常微细的印刷图案提高墨水的显色性能等。（来源：日经技术在线 撰稿：工藤宗介）