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如何设计PS版晒版时曝光时间(二)
2014-04-09 20:16:35   作者:   来源:   评论:0 点击:

  利用散射膜除脏的二次曝光时间的设定

  如果原版或是晒版玻璃上,有很多很难清除掉的划痕或是小脏点(包括胶带印),可以在晒版玻璃上铺放散射膜进行二次曝光,利用散射膜对光的散射原理,把直射光线变为散射光线,使原来那些因划痕或是脏点的遮盖未曝光的部分重新分解曝光,达到除脏的目的. 这样实际上是对PS版进行了两次曝光。第一次是正常的曝光,我们称之为主曝光,它的时间应为标准曝光时间的4/5;第二次曝光是在加盖散射膜下的曝光,也叫副曝光,副曝光的时间应该是主曝光的时间的一半. 虽然这种方式能够有效的去除脏点,但是我们也要注意,这种二次曝光也会导致网点的缩小甚至缺失,所以这个方法要谨慎使用。

  对曝光量(时间)的监控和计算

  使用连续调透射梯尺,利用其各级不等透光量来定量检测曝光量,是一个相对简单可靠的方式。晒版时只须把一条级差为0.15的10级连续调投射梯尺,晒制到原版版芯的外侧,经显影在梯尺上出现完全白、完全黑和1-2级中间过度段三种曝光状态,把此状态与基准曝光状态比较:当晒透级数比基准级数少时,表明曝光过度;当晒透级数比基准级数多时,表明曝光不足;当两者一致时表明曝光合适。

  当出现曝光过度或是曝光不足的现象,且超出了曝光宽容度(满足晒版要求的允许范围)的范围时,可按下面的公式计算正确的曝光时间:

  t - 调节后的曝光时间

  t1 - 调试时的预定曝光时间

  n0 - 标准曝光时间的晒透级数

  n1 - 测试曝光时间的晒版级数

  ΔD - 梯尺级差密度



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